高溫管式爐

一、高溫管式爐產品介紹：

       目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實現溫度的高精度測量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現象，華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現高精度，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實現寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染?？稍诟哒婵?，高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

       它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設定溫度值。節(jié)省時間并提高實驗速度。 同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)an全可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現溫度控制操作！

本試驗爐具有：1000度、1200度、1400度各種型號。也可根據用戶需求訂制！

       反射鏡是具有高精度曲率,采用5軸加工系統(tǒng)加工,以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。

設備優(yōu)勢：

      高速加熱與冷卻方式：高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設氣體冷卻裝置，可實現快速冷卻。

溫度高精度控制：過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以精準控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。

       不同環(huán)境下的加熱與冷卻：加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

應用范圍：

1. 電子材料

◆半導體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）

◆熱源薄膜形成

◆激活離子注入后

◆硅化物的形成

2. 陶瓷與無機材料

◆陶瓷基板退火爐

◆玻璃基板退火爐。

◆陶瓷張力、撓曲試驗退火爐。

3. 鋼鐵和金屬材料

◆薄鋼板加熱過程的數值模擬。

◆爐焊接模擬

◆高真空熱處理（1000°C以下）

◆大氣氣體熔化過程

◆壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐

4. 復合材料

◆耐熱性評價爐

◆無機復合材料熱循環(huán)試驗爐

5. 其它

◆高溫拉伸壓縮試驗爐。

◆分段分區(qū)控制爐

◆溫度梯度爐

◆爐氣分析

◆超導陶瓷退火爐